RF3Sは、高い信頼性で定評のあるRF3プラットフォームを進化させ、更なる高生産性・高性能化を実現したRF3のバージョンアップモデルです。また液浸プロセス固有のトップコート塗布や剥離処理などにもフレキシブルに対応するとともに、独自の洗浄・乾燥技術を生かした液浸用オプションパッケージにより、液浸プロセスにおける欠陥防止にも効果を発揮します。 200台を超える出荷実績 CD均一性の向上を図るRapid Hot Plate (RHP) 工程管理ツール「NeXusTM Real-Time SPC」 1時間当たり180枚の優れたスループット（RF3比20%増） 現像時間を60%以上短縮する新ECO現像システム スキャナインターフェースの最適化 45nm以降の超微細プロセスに対応 <0.8nm、3-sigmaのCD均一性 最適なCD均一性を実現する高精度･高性能ホットプレート 欠陥を除去する液浸用モジュール（Immersion ArF <0.1 defects/cm2） ArF・KrF・i線・BARC・SOG・カラーフィルター等 OCD検査機搭載オプション